洁新清洗剂为光伏行业研发的硅片清洗剂技术

硅片清洗剂的重要性与应用

硅片清洗剂在光伏行业中扮演着至关重要的角色，主要用于硅片表面的清洗，以确保其在后续加工过程中的质量和性能。硅片清洗剂需要具备残留性低、材料兼容性好、去污能力强、化学稳定性好、绿色环保等特性1。

主要成分及其功能

• 酸碱调节剂：如硫酸、氢氧化铵、盐酸以及氨水等，用于调节硅片清洗剂的pH值。
• 螯合剂：提升硅片清洗剂的悬浮性能、分散性能以及稳定性。
• 表面活性剂：有效去除硅片表面残留杂质以及污染物，常见的非离子表面活性剂包括脂肪酸甲酯乙氧基化物(FMEE)以及烷基酚聚氧乙烯醚(NP)1。

硅片清洗技术

常见的硅片清洗技术包括RCA清洗法、热态洗硅成膜剂法、HF/O3单片清洗法、高压喷射法、超声清洗法等1。这些技术的应用可以有效提高硅片的清洁度，减少后续加工中的缺陷。

洁新清洗剂的市场地位与发展前景

市场现状

全球硅片清洗剂市场主要集中于欧美以及日本等国，代表企业包括美国陶氏化学公司(DOW)、德国巴斯夫股份公司(BASF)、日本信越化学工业株式会社(Shin-Etsu)、日本JSR株式会社等1。在我国，虽然起步较晚，但市场参与者正在逐步增加。

发展趋势

随着我国光伏以及半导体行业发展速度加快，硅片清洗剂作为硅片表面清洁处理试剂，市场空间不断扩展。预计未来一段时间，伴随技术进步，我国硅片清洗剂市场参与者数量将有所增长，届时其行业景气度将进一步提升1。

洁新清洗剂的具体应用案例

合作企业

高特新材专注于硅片切割液、硅片清洗剂的研发、生产及销售，已与隆基绿能、华耀光电、弘元新材、华升新能源等知名半导体以及光伏企业达成合作，为其批量供应硅片清洗剂1。

产品特点与应用场景

洁新清洗剂具有残留性低、材料兼容性好、去污能力强、化学稳定性好、绿色环保等特点，广泛应用于光伏硅片以及半导体硅片的清洗过程中1。特别是在去除表面有机沾污、溶解氧化膜、去除颗粒、金属等方面表现出色。

安全使用与环保要求

在使用硅片清洗剂时，需严格按照化学品安全技术说明书(MSDS/SDS)进行贮存和使用，运输、使用或贮存不当可能引发人身、环境安全风险。产生的危险废弃物也应交由专业机构处理3。

环保特性

洁新清洗剂采用环保配方，无磷环保，避免因使用含磷清洁剂导致周围环境变化。同时，具有缓蚀性能，对金属(不锈钢和铝)和光伏玻璃表面无腐蚀，是理想的新型环保清洗剂4。

通过以上信息可以看出，洁新清洗剂不仅在光伏行业中发挥着重要作用，而且其环保特性使其成为未来发展的趋势。